半导体系行业废水处理

处理规模:45000t/d

采用技术:混凝除氟+高级氧化深度处理+树脂吸附

该废水COD在500mg/L左右,芯片生产过程中由于氟的使用产生大量含氟废水,工程执行《地表水环境质量标准》Ⅲ类标准与《电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020)直接排放标准的较严值,高排放要求对于COD、总氮和氟的去除都带来极大挑战。
项目处理量大,环境与景观要求高,项目地下为污水处理厂区,地上为市民公园,打造深圳市绿色生态标杆园区。


            

该项目有机物浓度低,利用均相催化技术分解氟化物与有机污染物,并通过深度处理进一步降低氟离子浓度并深度去除COD。

          
          

COD mg/LTN mg/LNH3-N mg/L氟化物 mg/L
芯片废水原水100.1116.53.215.115
出水水质15.6510.40.4681.326